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真空化學氣相沉積工藝(Chemical Vapor Deposition,英文簡稱CVD), 俗稱：真空氣相鍍膜，納米鍍膜或派瑞林鍍膜。是一種把含有構(gòu)成薄膜元素的長鏈性高分子材料（派瑞林Parylene等）、單質(zhì)氣體經(jīng)過升華、熱解后進入放置產(chǎn)品的真空反應室，借助空間氣相化學反應并在產(chǎn)品表面上沉積生成的0.1-100um薄膜涂層的工藝技術(shù)。薄膜涂層厚度均勻，致密無針孔、透明無應力、不含助劑、不損傷產(chǎn)品、有優(yōu)異的電絕緣性和防護性，是當代最有效的防潮、防霉、防腐、防鹽霧涂層材料。
CVD化學氣相沉積流程
隨著時代的發(fā)展，電子產(chǎn)品技術(shù)的不斷革新。高新技術(shù)與智能化的發(fā)展，精密的電子設(shè)備元件需要適應各種惡劣的工作環(huán)境，達到工業(yè)對其更高的要求：高可靠，小型化，抗干擾等等。因此，電子零部件的環(huán)境適應性和防護力就成了重中之重。
LPMS為適應現(xiàn)有市場需求, 通過開發(fā)創(chuàng)新，成功的將派瑞林鍍膜技術(shù)運用到電子產(chǎn)品行業(yè)。我們在材料、工藝和設(shè)備方面的專有技術(shù)使我們能夠為客戶帶來高質(zhì)量的超薄與納米級保形涂層，其成就在行業(yè)得到認可。
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CVD派瑞林真空氣相沉積工藝鍍膜后產(chǎn)品表面化學純度高，鍍膜均勻，無小孔，無氣泡，不會脫落，無熱應力。
我們能為您做什么？
針對客戶具體項目，進行項目評估、提供專業(yè)可行的CVD（派瑞林parylene）真空氣相沉積工藝解決方案，以及納米涂層加工服務(打樣測試或大批量加工生產(chǎn))。
根據(jù)客戶技術(shù)要求提供CVD真空氣相沉積工藝所需的Parylene派瑞林粉體，并給于專業(yè)的技術(shù)指導；
為有需要的客戶提供有針對性設(shè)計的CVD（派瑞林parylene）真空氣相沉積工藝設(shè)備（真空氣相沉積鍍膜機、真空脫氣爐等相關(guān)設(shè)備）。
CVD派瑞林鍍膜廣泛用于航空航天、電路板、LED 、磁性材料、傳感器、硅橡膠、密封件、醫(yī)療器械、珍貴文物等領(lǐng)域。CVD派瑞林鍍膜后的電子產(chǎn)品具有極高的絕緣強度和耐高低溫(-60至200度)、抗腐蝕、耐酸堿、潤滑、防塵、防潮、防銹、透明、防水(最高可達IP68)、抗老化、生物兼容性等。
LPMS擁用標準的真空氣相鍍膜車間和10多臺CVD真空氣相沉積設(shè)備，可為客戶提供CVD真空氣相沉積納米級涂層的打樣測試或大批量生產(chǎn)代加工服務。同時也可提供包括產(chǎn)品的從SMT表面黏著、DIP插件、無鉛制程、焊接加工、低壓注塑/點膠、真空氣相鍍膜、產(chǎn)品測試、成品包裝的全程代工代料服務，亦也可為客戶提供新產(chǎn)品開發(fā)服務。
CVD真空氣相沉積工藝所使用的是一種保護性長鏈性高分子材料(中文名：派瑞林、聚對二甲苯、英文名：Parylene)，它可在真空下氣相沉積，活性分子的良好穿透力能在元件內(nèi)部、底部，周圍形成無針孔，并厚度均勻的透明絕緣涂層，給元件提供了一個完整的優(yōu)質(zhì)防護涂層，抵御酸堿、鹽霧、霉菌及各種腐蝕性氣件的侵害，因為所使用的不是液體，所以涂敷過程中不會聚集，橋接式形成彎月面。
Parylene派瑞林高分子材料根據(jù)分子結(jié)構(gòu)可分為： N、C、 D、F、HT等多種 類型。我們可根據(jù)客戶技術(shù)要求與產(chǎn)品提供CVD真空氣相沉積工藝所需的Parylene派瑞林粉體與原料，并給于專業(yè)的技術(shù)指導。
派瑞林牌號 成膜特性 | CAT N粉 | CAT C粉 | CAT D粉 | CAT F(VT4)粉 | CAT AF4(HT)粉 |
密度（gm/cc) | 1.1 | 1.3 | 1.41 | 1.55 | 1.5 |
介電常數(shù)（1Mhz) | 2.6 | 2.9 | 2.8 | 2.3 | 2.2 |
介電強度（V/Mil) | 7000 | 5600 | 5500 | 5000 | 7000 |
最低持續(xù)工作溫度(空氣中） | -60°C | -60°C | -60°C | -60°C | -60°C |
最高持續(xù)工作溫度(空氣中） | 60°C | 80°C | 110°C | 200°C | 300°C |
摩擦系數(shù)-動態(tài) | 0.25 | 0.29 | 0.38 | 0.39 | 0.16 |
線性膨脹系數(shù)(ppm at 25°C) | 69 | 35 | 38 | 45 | 34 |
吸水性（24H后） | <% 0.1 | <% 0.1 | <% 0.1 | <% 0.1 | <% 0.1 |
水蒸氣透過率(gm.mm)/m2.day) | 0.6 | 0.08-0.1 | 0.1 | 0.25-0.32 | 0.2 |
氧氣穿透率(cc.mm)/(m2.day.atm) | 16 | 3 | 12.0-13.5 | 16.8 | 25.3 |
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